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　　美光公司在华销售的产(chǎn)品未通过网(wǎng)络(luò)安全审查

　　据(jù)网信(xìn)办消息，日前，网络安全审(shěn)查办公室(shì)依(yī)法对美(měi)光公司在华销售产(chǎn)品进行了网络安全审查。

　　审查发现，美光公司产品存在较严(yán)重网(wǎng)络安全问题隐(yǐn)患，对我国关(guān)键信(xìn)息(xī)基础身临其境是什么意思的临，身临其境是什么意思呢原意是什么设施供(gōng)应(yīng)链(liàn)造成(chéng)重大安(ān)全风(fēng)险，影响我(wǒ)国国家安全。为此，网络安(ān)全审查办公室(shì)依法作出(chū)不予通(tōng)过网络安全审查的(de)结论。按照(zhào)《网络安全法》等(děng)法(fǎ)律法规，我国内关键信(xìn)息基础设施(shī)的运营者应停止采购(gòu)美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)。

　　此次对美(měi)光公司产品进(jìn)行网络安全(quán)审查(chá)，目的是防范(fàn)产品网络(luò)安全问题危害国(guó)家(jiā)关键信息(xī)基础设(shè)施安全，是维护国家安全的必要措施。中国坚(jiān)定推进高水平(píng)对外开放，只要遵守中国法律身临其境是什么意思的临，身临其境是什么意思呢原意是什么法规(guī)要求，欢(huān)迎各国(guó)企业、各(gè)类平台产品服务进入中国市场。

　　3月31日，中(zhōng)国网信网发(fā)文(wén)称，为(wèi)保障关键信息基础设施供应链安全，防(fáng)范产品(pǐn)问题隐患(huàn)造成网(wǎng)络安全(quán)风险(xiǎn)，维(wéi)护国家安全，依据《中华(huá)人民共和国国家(jiā)安(ān)全法》《中华人(rén)民共和国网络安全法》，网络安(ān)全审查办公室按照《网络安全审(shěn)查办(bàn)法》，对(duì)美光公司（Micron）在华销售的产(chǎn)品(pǐn)实(shí)施网(wǎng)络安(ān)全审查。

　　美光是美国(guó)的存储芯片行业龙(lóng)头，也是全球(qiú)存储芯片巨头之一，2022年收(shōu)入来自中国市场收入从此(cǐ)前高峰57％降(jiàng)至2022年约(yuē)11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在(zài)全球(qiú) DRAM （内存(cún)）市(shì)场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司(sī)中，江(jiāng)波龙、佰维(wéi)存储等(děng)公司披(pī)露过美(měi)光(guāng)等(děng)国际存储厂商为(wèi)公司供(gōng)应商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已(yǐ)经显著下降，至少已经不(bù)是主(zhǔ)要大(dà)供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年美光位列江波龙(lóng)第一(yī)大存储晶圆(yuán)供应商(shāng)，采购(gòu)约31亿元，占(zhàn)比33.52％；2022年，江(jiāng)波龙(lóng)第(dì)一大、第二大和第三大供应商采购金额占比分别是26.28％、22.身临其境是什么意思的临，身临其境是什么意思呢原意是什么85％和(hé)5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产(chǎn)业链(liàn)上下(xià)游建立国内(nèi)外广泛合作(zuò)。2022年年(nián)报(bào)显(xiǎn)示，江波龙(lóng)与三星、美光、西部(bù)数据等主要存储晶圆原(yuán)厂签(qiān)署了长期合约，确保(bǎo)存储晶圆(yuán)供应的(de)稳(wěn)定性(xìng)，巩固公(gōng)司(sī)在下游(yóu)市场的供(gōng)应优(yōu)势(shì)，公司也与国内国(guó)产(chǎn)存储晶圆原(yuán)厂武汉长江存(cún)储、合肥(féi)长鑫保持良(liáng)好的合作。

　　有券商此前就分析(xī)，如果美光在中国(guó)区(qū)销售受到限制，或将(jiāng)导致下游客户转而采(cǎi)购国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长(zhǎng)鑫存储等(děng)竞对产品

　　分(fēn)析称，长存、长鑫的上游设备厂(chǎng)或从中受益。存储器的生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外(wài)NAND Flash现在已经进(jìn)入(rù)3D NAND时(shí)代，2 维(wéi)到3维的结构转变使刻蚀和薄膜(mó)成为最关键、最大量的加工(gōng)设(shè)备。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要(yào)经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同(tóng)时刻蚀目前前沿要刻到 60：1的(de)深孔，未来可(kě)能会更深的孔或(huò)者沟槽(cáo)，催生更多设备需求。据东京(jīng)电子披露，薄膜(mó)沉(chén)积设(shè)备及刻(kè)蚀占3D NAND产线资(zī)本开(kāi)支合计(jì)为(wèi)75％。自长江(jiāng)存储被加(jiā)入美国限制名(míng)单，设备国(guó)产化进(jìn)程加速，看好拓荆(jīng)科技（薄膜沉(chén)积）等相关公司份额提(tí)升(shēng)，以及(jí)存储业务占比(bǐ)较高的华海清科(kē)（CMP）、盛美上海(hǎi)（清洗）等收入增长(zhǎng)。

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