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仙洋为什么判7年,仙洋为什么被抓了 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消息,国家(jiā)知识产权局局(jú)长申(shēn)长雨在新(xīn)闻发布会(huì)上(shàng)表(biǎo)示,将统筹推进各类知识产权法律法规和(hé)制度规则(zé)的(de)制(zhì)修订工(gōng)作。其中,修改完善集成电(diàn)路布图设计保护条例,适(shì)应大(dà)规模集成(chéng)电路发(fā)展需要,助力芯片(piàn)产业做大做强,服务数字经济(jì)更好发(fā)展。仙洋为什么判7年,仙洋为什么被抓了

  加强大数据、人工(gōng)智(zhì)能、基因技术等新领域新业态知识产权规(guī)则研究,助力相关领域创新发展。同时(shí),积极(jí)参与知识产权国际(jì)规则制定(dìng),更好对接高(gāo)标准国际经(jīng)贸规则(zé),助力高水(shuǐ)平对外开放(fàng)。

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